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工藝過程裝備

JCP型高真空多靶磁控濺射系統
小型磁控濺射系統通過共焦超高真空陰極，制備各類金屬及其合金、非金屬單層膜、多層膜和摻雜膜系，廣泛應用于半導體、微電子、材料等相關工業應用領域。
模塊設計，結構緊湊易于擴展；實時監測，運行數據在線顯示；自動化高，一鍵啟動；靈活度高，工藝配方自由設置；功能性強，支持多種薄膜制備；穩定性好，成膜高效質量可靠。

性能指標

外形尺寸圖

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